硅片清洗剂主要用在单多晶线切割后的硅片表面清洗处理,能有效将嵌入在硅片表面的颗粒、有机物、金属离子等污染物去除,并在表面形成保护层,防止颗粒的二次吸附,使硅片表面洁净如一,能有效提高外延或扩散工序的成品率,主要是应用于各种硅片线切割与抛光后的硅粉、残胶,氧化物和油污清洗。
硅片清洗剂产品的优点
1.对硅片切割液、研磨液等具有较好乳化、分散及清洁作用,且使用寿命长,易清洗漂洗。
2.硅片表面不易产生过腐蚀,表面无花斑白点。
3.中温使用,浓度高、成本低、速度快,效果好。
4.清洗性能好,无残留,导电性能好。
5.配合超声波,清洗效果更佳。
希尔硅片清洗剂是一款由多种表面活性剂、助剂复配而成浓缩型水基清洗剂,具有优秀的润湿、渗透、络合能力,用于各种硅片、元器件、半导体、晶圆和晶片等表面浸渍、喷淋、超声波的清洗。
希尔材料表面处理厂家,有清洗问题需要寻找清洗剂或清洗技术支持,欢迎拨打 13925721791 联系我们