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硅片清洗快用硅片清洗剂

返回列表 来源: 发布日期: 2020.08.31

硅片清洗剂一般用于去除硅片表面的各种污垢,效果十分显著。那大家真的了解硅片清洗剂吗?今天小编就来给大家介绍一下有关硅片清洗剂的一些知识。

硅片清洗剂

希尔硅片清洗剂是针对性去除硅片表面的颗粒、有机物、金属离子等污染物的水基清洗剂,清洗剂中的活性物质可以吸附在硅片表面,使其长期处于易清洗的物理吸附状态,并在表面形成保护层,防止颗粒的二次吸附,能有效提高外延或扩散工序的成品率。

希尔硅片清洗剂一般是透明或者微黄色的液体产品,PH值一般在7——9之间。

希尔硅片清洗剂可应用领域:用于半导体硅片器件、薄膜技术中的玻璃和金属表面浸渍、喷淋、超声波的清洗。

希尔硅片清洗剂使用时按比例稀释成工作液后,加热至50-60度,恒温浸泡5-10分钟,或超声波清洗2-3分钟。对于重污垢工件,延长清洗时间或使用多槽多次方式彻底清洗干净。

在使用时要注意的是:1.定期检查槽液温度、液位,及时补水及相应比例补加原液。2、按规定时间定期更换槽液。

希尔硅片清洗剂的优点:

1. 清洗效果好,不会产生清洗残留

2. 对硅片材质不会造成损伤

3. 本身化学性质稳定,无毒无害

4. 使用槽液易维护、易漂洗

以上就是一些有关硅片清洗剂的知识,希望能够帮助大家更好的使用硅片清洗剂。

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